Substrato di cristallo A-Z

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LaAlO3, (110) substrato 10x10x0,5 mm, 1 lato lucidato a specchio - LAOe101005S1

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LaAlO3, (100) substrato orn.10 x 5 x 1,0 mm, 1 lato lucidato a specchio - LAOa100510S1

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LaAlO3, (100) Orn. Lucidatura EPI 3" x 0,5mm wafer 2 SP --- Quantità scontata!

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LaAlO3, (100) orn. Lucidatura EPI 3" x 0,5mm wafer 1 SP - LAOa76D05C1US

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InSb (111)- B diametro 2" x 0,45 mm, drogato con Te, tipo N, 1 lato (Sb) lucidato

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Substrato di grafite pirolitica altamente orientata (grado SPI-2), 5 x 5 x 1,0 mm, come schiarito

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Substrato di grafite pirolitica altamente orientata (HOPG) (grado SPI-2), 20x20X2,0 mm, come da taglio,

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Substrato di grafite pirolitica altamente orientata (grado SPI-2), 10x10X1,0 mm, come schiarito

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Fogli di mica di grado superiore, 15 mm x 15 mm (0,59'' x 0,59"), spessore da 0,15 a 0,177 mm (0,006-0,007"), 10 pacchi

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Dischi di mica di grado superiore, diametro 9,9 mm 10/pkg

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Dischi di mica di grado superiore, diametro 20 mm 10/pkg

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[KMg3(AlSi3O10)F2] -Mica fluorflogopitica sintetizzata, spessore 8x 8x0,2 (mm), come fessurata

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ZnTe(110) con rivestimento a specchio dielettrico, R> 98% @ 1550+/- 50 nm, AOI=0 deg, dimensioni: 1x1x0,5mm, 2sp

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ZnTe Orientamento casuale, tipo n, 10x10x0,5 mm, 2sp- ZT101005S2NtypeUS

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ZnSe policristallo, finestra ottica, 101,6 mm di diametro x1,8 mm di spessore, rettifica fine

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ZnSe policristallo, finestra ottica, 101,6 mm di diametro x1,65 mm di spessore, due lati lucidati. con s/d: 60/40-1

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ZnSe (110) 10x10x1,0mm, 2sp con s/d: 60/40 su entrambi i lati, alta resistività

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ZnSe (100) 5x5x0.5mm, 1sp - ZnSea050505S1US

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ZnSe (100) 10x5x1.0mm, 1sp - ZnSea100510S1US

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ZnSe (100) 10x5x0,5mm, 1sp - ZnSea100505S1US