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Spin Coater anticorrosione (6K RPM e 6" wafer Max. Compatibile con gas Ar) - VTC-200P

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Stazione di controllo di miscelazione del gas a tre canali anticorrosione realizzata con parti in PTFE - GSL-3F-PTFE

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Serbatoi di elettrolito anticorrosivo con dima e connettori per tubi per celle a flusso Redox - EQ-FCT-LD

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Copertura riscaldante in PTFE anticorrosione (fino a 200C) con mandrini a vuoto in PTFE PER VTC-100PA - MTI-PTFE-VTC100PA

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Forno a tubo rotante anticorrosivo con tubo a doppio strato da 2" ID, 800°C a 3 bar di pressione -OTF-800X-III-R2

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Mandrini a vuoto anticorrosivi con O-Ring di diverse dimensioni PER VTC-100PA - MTI-VTC100PA

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Forno di fusione sottovuoto ad arco VBF-1200X-T

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Sistema di fusione ad arco (250A) con colata sotto vuoto - SP-MSM208

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Sistema di fusione ad arco fino a 300 g con agitazione elettromagnetica e colata sotto vuoto - SP-MSM-300

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Sistema di fusione ad arco fino a 500 g con funzione di colata e refrigeratore a vuoto e ad acqua - AM-800-5

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Sistema di fusione ad arco fino a 500 g con funzione di colata e refrigeratore a vuoto e ad acqua - SP-MSM-800A

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Polvere di grafite artificiale per anodo di batteria agli ioni di litio, 200 g/sacco - Lib-CMSG

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Forno di colata continua controllato in atmosfera con funzione di carica secondaria - IMCS-1700VC

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Sistema di solidificazione direzionale controllato in atmosfera con dispositivo di alimentazione opzionale - IMCS-1500RC

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Forno RTP controllato in atmosfera per wafer da 8" fino a 1000 °C - VBF-1050X-H8

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Fascio di plasma atmosferico con sistema di scansione automatico e piastra di riscaldamento per il trattamento delle superfici - GSL1100X-PJF-H

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Fascio di plasma atmosferico con sistema di scansione automatico per il trattamento delle superfici - GSL1100X-PJF-A

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Sistema a getto di plasma atmosferico (penna al plasma) per il trattamento delle superfici-GSL1100X-PJF

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Sonda atomizzatore (amplificatore), MTI-USP-UP

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Substrato a cristallo singolo Au (oro): <110>, 10x5x0,5 mm, 1 lato lucidato