Rivestitore a sputtering al plasma con magnetrone da 2”, ad alto vuoto, a 3 teste, DC/RF - VTC-600-3HD-LD
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Rivestitore a sputtering al plasma con magnetrone da 2”, ad alto vuoto, a 3 teste, DC/RF - VTC-600-3HD-LD
MTI
Il VTC-600-3HD-LD è un sistema combinato di sputtering al plasma dotato di tre sorgenti di sputtering a magnetrone da 2” e tre alimentatori RF/DC. Tale sistema di sputtering è in grado di effettuare lo sputtering simultaneo di fino a tre diversi materiali bersaglio e crea vari profili di composizione sul substrato (ad esempio, materiali ternari per batterie ricaricabili agli ioni di litio). Questo sistema è inoltre adatto al rivestimento sequenziale di film multistrato quali materiali ferroelettrici, leghe, semiconduttori, ceramiche, dielettrici, ottici, ossidi, materiali duri, PTFE, ecc.
SPECIFICHE
| Alimentazione |
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| Potenza della sorgente |
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| Controllo del flusso di gas |
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| Stazione di pompaggio per vuoto (Opzionale) |
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| Refrigeratore d’acqua (Opzionale) |
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| Misurazione dello spessore del film (Opzionale) |
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| Conformità |
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| Nota applicativa |














