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ISUa50D05C2US
InSb (100) diametro 2" x 0,5 mm, tipo N Non drogato, 2 lati lucidati
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InSb (100) diametro 2" x 0,5 mm, tipo N Non drogato, 2 lati lucidati
MTI
Wafer InSb da 2" (tipo N, non drogato)
- Dimensioni: diametro 2" x spessore 0,5 (+/- 0,025) mm
- Orientamento: <100> ±0,5°
- Tipo/dopante: tipo N/non drogato
- Lucidatura della superficie: Faccia In(A) lucidata chimicamente, faccia finale
faccia Sb(B) lucidata con Linde A 0,3 µm (finitura a specchio)
- Mobilità: > 3,9E4 /cm²/V.S
- EPD: < 200
- Concentrazione di portatori: (2–7)E14 cm⁻³ a 77 K
- Metodo di crescita: LEC
- Imballaggio: sigillato in azoto in un contenitore per singolo wafer in camera bianca di classe 100
