LaAlO3, substrato (110) 5x5x0,5 mm, un lato lucidato a specchio

Specifiche del substrato:

• Dimensioni del wafer: 5 x 5 x 0,5 mm di spessore +/-0,05 mm
• Orientamento del wafer: (110) ±0,5 gradi 
• Lucidatura: Lucidatura CMP su un lato, senza danni al sottostrato
  
• Finitura superficiale (RMS o Ra): < 15 A
• Confezionamento: In camera bianca di classe inferiore a 1000, in sacchetto di plastica di grado 100 all’interno di un contenitore per wafer.