Macchina per rivestimento a sputtering al plasma in glovebox con 3 teste di sputtering e alimentatori RF/DC - VTC-600-3HD-GB
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Macchina per rivestimento a sputtering al plasma in glovebox con 3 teste di sputtering e alimentatori RF/DC - VTC-600-3HD-GB
MTI
Il VTC6003HDGB è un sistema di rivestimento a sputtering al plasma a tre teste all’interno di una camera a guanti (O₂ e H₂O < 1 ppm). Questo sistema è progettato per la ricerca sulle batterie al litio a film sottile allo stato solido ed è adatto anche al rivestimento sequenziale di film multistrato quali ferroelettrici, leghe, semiconduttori, ceramiche, dielettrici, ottici, ossidi, ecc.
Caratteristiche
- Tre pistole di sputtering a magnetrone da 2" per lo sputtering combinato o la crescita strato per strato.
- Possibilità di scegliere tra sorgenti di alimentazione RF e CC
- Integrato in una camera a guanti (O₂ e H₂O < 1 ppm)
- Facile trasferimento dei campioni all’interno della camera a guanti.
SPECIFICHE
| Alimentazione |
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| Alimentatori CC/RF |
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| Controllo del gas e della portata |
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| Stazione di pompaggio del vuoto (Opzionale) |
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| Refrigeratore d’acqua (Opzionale) |
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| Misurazione dello spessore del film (Opzionale) |
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| Conformità |
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