MTI  |  SKU: GaO101005S1ori100DopedSnUS5

Substrato di cristallo singolo Ga2O3-Beta, <100>+/-1 grado di tipo N, drogato con Sn 10x10x0,5mm, 1SP

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Substrato di cristallo singolo Ga2O3-Beta, <100>+/-1 grado di tipo N, drogato con Sn 10x10x0,5mm, 1SP

MTI

Specifiche del substrato:

  • Composizione chimica: ß-Ga₂O₃  
  • Struttura: Monoclina
  • Costanti reticolari: a=12,23 A, b=3,04 A, c=5,80 A, ß=103,7°
  • Orientamento: <100> +/-1° (Si prega di prestare attenzione alla definizione degli assi a, b, c sopra riportata)
  • Tipo/Dopante: Tipo N, drogato con Sn
  • Dimensioni: 10 x 10 x 0,5 mm
  • Lucidatura: lucidato su un lato
  • Resistività: <0,01 ohm·cm
  • Rugosità superficiale: < 15A
  • Area utile: >80%