MTI | SKU:
GAUa100D06C1US5
Wafer di GaAs, metodo di crescita: VGF ,(100) semi-isolato non drogato 100 mm D x0,6 mm, 1SP
Prezzo normale
€435,85
Prezzo unitario
/
Non disponibile
Non è stato possibile caricare la disponibilità per il ritiro
Consegna e spedizione nell'UE
Consegna e spedizione nell'UE
Nel preventivo aggiungeremo i costi di spedizione, assicurazione e sdoganamento.
Wafer di GaAs, metodo di crescita: VGF ,(100) semi-isolato non drogato 100 mm D x0,6 mm, 1SP
MTI
- Wafer di cristallo singolo GaAs
- Metodo di crescita: VGF
- Orientamento: (100)
- Piatto: (01-1) .(011)
- Dimensioni: 100 mm dia x 0,6 mm
- Lucidatura: un lato lucidato
- Ra (ruvidità media): < 0,4 nm
- Doping: non drogato
- Tipo di conduttore: Semi-isolante
- Resistività: (0,39-4,75)E8 Ohm.cm
- Mobilità: 4120-6820 cm^2/v.s.
- EPD: <5000/cm2
- Superficie e imballaggio pronti per l'EPI
Prodotti correlati
| Altro GaAs |
InSb |
Altro InAs |
InP |
GaSb |
Scatola per wafer |
Rivestitore di film |
Forni RTP |
