Sustrato de cristal A-Z

MTI

Cristal único CaCO3, (100) Ori, 10x10x1,0mm, 1SP, .- CCOa101010S1

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Cristal único CaCO3, orientación (001), 10x10x0,5mm, 2SP - CCOb101005S2

MTI

Cristal Único CaCO3 (100) Orientación, 5x5x0,5mm, Pulido EPI por una cara.

MTI

Cristal único CaCO3 (100) Orientación, 10x10x0,5mm, Pulido EPI por una cara - CCOa101005S1

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R), 5mm x 5mm x 0,46 mm, 2sp, Lámina: 0,5um de espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R), 10mm x 10mm x 0,46mm, 2sp, Película: 0,5 um de espesor

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 5mmx 5mmx0,46 mm,2sp, Film:1,0um espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 5mmx 5mmx0,46 mm,2sp, Lámina:0,6um espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 10mmx 10mmx0,46mm,2sp, Lámina: 1,0 um de espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 10mmx 10mmx0,46mm,2sp, Lámina: 0,6 um de espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0,46mm,2sp, Película: 1,0 um espesor,

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0,46mm,2sp, Película: 0,6 um espesor,

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0,46mm,2sp, Película: 0,5 um espesor,

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0.46mm,1sp, Film: 1.0 um espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0.46mm,1sp, Película: 0.6 um espesor

MTI

Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0,46mm,1sp, Película: 0,5 um espesor

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SiC-3C N-type Film on Silicon (111) Wafer, Film: 1.0um Thick substrate size: 10x10x1.0mm

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Elemento calefactor de SiC para horno de mufla KSL-1400A4 - KSL-1400A4-HEL

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SiC - 6H (0001), 5x5x0,33 mm, 2 SP

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SiC - 6H (0001), 10x10x0,26 mm , dos caras pulidas