Películas finas A-Z

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Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 100 mm diá. x 0,5 mm t, tipo P, 1SP R:0,01-0,05 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico: 285 nm SiO2 sobre Si (100), 10 x 10 x 0,5 mm, tipo N ,1SP dopada con P, R:1-10 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico: 1000 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm t, Ptype , 1SP,R:1-20 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 sobre Si (100), 5x5 x 0,5 mm, tipo N, dopado con As, 1SP, R: 0,001-0,005 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 sobre Si (100), 10 x 10 x 0,5 mm, tipo N, dopado con As, 1SP, R: 0,001-0,005 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm , N type , P doped, 1SP R: 0.1-1.0ohm.cm - Fm100SOonSIPa100D0525C1R01US

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Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.50 mm t, P-type ,B-doped 1SP R:1-10 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico, capa de SiO2 de 30 nm sobre Si (100), 2" diá. x 0,50 mm t, tipo N, dopada con As, 1 cara pulida, R:<0,005 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico:Capa de SiO2 de 300nm sobre Si (100)100mm diax0,5 mm t,tipo P, 1SP R:0,001-0,005 ohm.cm

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Oblea de óxido térmico: Una cara 300 nm SiO2 Capa sobre Si (100), 4 "dia x 0.50 mm t,no dopado tipo N, 1SP R:>5000 ohm.cm

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SOI Wafer:5x5x0.625mm, 2 .5 "m (dopado con P) +1.0 SiO2 +625um Si (dopado con P /Boron)

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Oblea SOI: 6", 2,5 "m (dopado con P ) + 1,0 SiO2 + 625um Si (dopado con P /Boron )

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Oblea SOI: 10x10x0,625mm, 2,5um (dopado con P) +1,0 SiO2 +625um Si (dopado con P/Boron)

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Lámina delgada de SiO2+Ti+Pt(111) sobre sustrato de Si ,4 "x0.525mm,1sp P-type B-doped,( SiO2=300nm,Ti=10nm ,Pt(111)=150nm)

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SiO2+Ti+Pt(111) película delgada sobre sustrato de Si ,2 "x0.279mm,1sp P-type B-doped.R:1-20 ohm.cm

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Película fina de SiO2+Ti+Pt sobre sustrato de Si ,10x5x0,5mm,1sp,dopada con B,( SiO2=500nm,Ti=50nm ,Pt=200nm)

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R), 5mm x 5mm x 0,46 mm, 2sp, Lámina: 0,5um de espesor

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R), 10mm x 10mm x 0,46mm, 2sp, Película: 0,5 um de espesor

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 5mmx 5mmx0,46 mm,2sp, Film:1,0um espesor

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 5mmx 5mmx0,46 mm,2sp, Lámina:0,6um espesor