Películas finas A-Z

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0,46mm,2sp, Película: 0,5 um espesor,

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0.46mm,1sp, Film: 1.0 um espesor

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0.46mm,1sp, Película: 0.6 um espesor

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Silicio sobre zafiro (11-02, Plano R ), 100mm Dia x 0,46mm,1sp, Película: 0,5 um espesor

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Película de nitruro de silicio (LPCVD) sobre Corning 7980, Espesor de la película: 1,3um ,10x5x0,5mm

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Película de nitruro de silicio (LPCVD) sobre Corning 7980, Espesor de la película: 1,3um ,10x10x0,5mm

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Película de nitruro de silicio (LPCVD) sobre Corning 7980, Espesor de la película: 1,3um

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SiC-3C N-type Film on Silicon (111) Wafer, Film: 1.0um Thick substrate size: 10x10x1.0mm

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Película fina de SiO2+Pt sobre sustrato de Si (dopado con B) ,10x10x0,5mm,1sp (SiO2=500nm, Pt=60nm)

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Plantilla de GaN semi-aislante sobre zafiro (0001),3 "x 0.5mm,1sp GaN Film:5um

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Tubo de cuarzo: 130 ODx120 IDx1400L mm (5 "x 55") para horno tubular DIY - QZTube-125GE-1400

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Lámina YIG Epi de una cara ( 3,08 micras) sobre sustrato GGG, (111), 5x5x0,5mm(2sp)

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Lámina YIG Epi de una cara ( 3,08 micras) sobre sustrato GGG, (111), 10x10x0,5mm(2sp),

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Película YBCO de una cara de 100nm sobre sustrato SrTiO3(100) 10x10x0,5 mm - FmYBCOonSTOa101005S1FT100nm

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Película de YBCO de una cara (300-400) nm sobre sustrato SrTiO3 (100) 10x10x0,5 mm

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Níquel<111> Película (100nm) Recubierta SiO2/Si Oblea -(100) P/Boron ,10x10x0.5mmSSP, R:1-20 ohm.cm - Ni-SO/Si-101005S1

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Níquel <111> Film( 100nm) Recubierto Si Wafer (100) P/Boron ,10x10x0.5mmSSP, R:1-20 ohm.cm

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Níquel <111> Film (100nm) + 300 nm SiO2 coated Silicon Wafer -4" dia .(100) P/Boron ,SSP, R:1-20 ohm.cm

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Alambre de molibdeno para horno vertical MTI como alambre de tracción

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MgO (100) Substrato 10x10 x1.0 mm , 2SP, ¡Cantidad con descuento! - MGa101010S2