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OTF-1200X-S-II-PEC4
Horno rotativo 1100C PE-HPCVD con evaporador in situ, MFC de 4 canales y bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PEC4
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Horno rotativo 1100C PE-HPCVD con evaporador in situ, MFC de 4 canales y bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PEC4
MTI
OTF-1200X-S-II-PEC4 es un sistema de deposición de vapor físico-químico híbrido mejorado con plasma (PE-HPCVD) giratorio de dos zonas a1200ºC. Consta de un generador de plasma RF (radiofrecuencia) de 300 W y una red de adaptación, un barco de evaporación de fuente ascendente con fuente de alimentación, un suministro de gas MFC de cuatro canales y una bomba de vacío de alto rendimiento. Este sistema completo es una herramienta excelente para el tratamiento térmico de polvos de compuestos inorgánicos con temperatura superior y uniformidad de recubrimiento de la superficie (por ejemplo, preparar polvos de cátodos de baterías Li-Ion con recubrimientos conductores en la superficie de la muestra).
(El número de artículo se ha actualizado de OTF-1200X-S-II-4CV-PE desde marzo de 2019)
ESPECIFICACIONES:
(El número de artículo se ha actualizado de OTF-1200X-S-II-4CV-PE desde marzo de 2019)
ESPECIFICACIONES:
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| Horno rotativo de dos zonas |
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| Fuente de alimentación de plasma RF |
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| Velocidad de rotación del tubo |
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| Bomba de vacío y manómetro |
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| Estación de mezcla de gases MFC |
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| Garantía | Garantía limitada de un año con asistencia de por vida (la garantía no cubre las piezas consumibles, como tubos de procesamiento, juntas tóricas y elementos calefactores; solicite las piezas de repuesto en los productos relacionados a continuación). |
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