MTI | SKU:
OTF-1200X-Mist
Horno CVD MIST 1200°C para crecimiento de cristales- OTF-1200X-Mist
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Horno CVD MIST 1200°C para crecimiento de cristales- OTF-1200X-Mist
MTI
ESPECIFICACIONES:
| Características | OTF-1200X-Mist es un horno tubular de 1200ºC integrado con un sistema de nebulización por ultrasonidos para el crecimiento epitaxial de película fina o monocristal mediante el método de CVD por nebulización. |
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| Panel de control |
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| Dimensiones | TBD |
| Peso neto | TBD |
| Garantía | Garantía limitada de un año con asistencia de por vida (las piezas consumibles como tubos de procesamiento y juntas tóricas no están cubiertas por la garantía, pida el repuesto en productos relacionados más abajo). |
| Aplicación | Este tipo de CVD por nebulización puede utilizarse para cultivar cristal de Ga2O3 de alta calidad. |
Conformidad |
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| Artículo de referencia | |
| Vídeo de funcionamiento | . |






