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OTF1200XIIIR5-PECVD
Horno tubular rotativo de 5" con alimentación y recepción para PE-CVD en polvo y limpieza - OTF-1200X-III-R5-PECVD
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Horno tubular rotativo de 5" con alimentación y recepción para PE-CVD en polvo y limpieza - OTF-1200X-III-R5-PECVD
MTI
OTF-1200X-III-R5-PECVD es un sistema de deposición química en fase vapor mejorada por plasma (R-PE-CVD) giratorio de tres zonas a1200ºC, diseñado para el recubrimiento de superficies de polvo con el fin de formar partículas con estructura de concha central a una temperatura relativamente baja, también puede utilizarse para la limpieza de superficies de polvo. La temperatura, la potencia del plasma y el gas MFC de 4 canales se controlan mediante un panel de pantalla táctil y un ordenador portátil para facilitar el funcionamiento.
ESPECIFICACIONES:
ESPECIFICACIONES:
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| Horno rotativo de tres zonas |
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Juego de bridas izquierdo Juego Brida Derecha | |
| Velocidad de rotación del tubo |
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| Ángulo de inclinación del horno |
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| Bomba de Vacío y Manómetro |
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| Estación de mezcla de gases MFC |
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| Alimentador volumétrico y depósito colector ![]() Foto 1 Foto 2 |
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| Garantía | Garantía limitada de un año con soporte de por vida (las piezas consumibles como tubos de procesamiento, juntas tóricas y elementos calefactores no están cubiertos por la garantía, por favor pida repuestos en los productos relacionados más abajo). |
| Ordenador portátil, software de control (opcional) | |
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