Sistema de deposición de capas atómicas mejorada por plasma (PE-ALD) a 800°C con platina giratoria de 4" - ALD-800X-4-PE

ALD-800X-4-PE es un sistema compacto de deposición de capas atómicas mejorada por plasma (PE-ALD) con cinco válvulas de alta frecuencia, cabezal de ducha de 4" y platina giratoria de muestra calentable, y un generador de RF de 300 W. Los procesos PE-ALD pueden realizarse mediante el sistema de control de panel de pantalla y el sistema de control de software de ordenador portátil. Este PE-ALD tiene varias ventajas, como una amplia gama de selección de precursores y ventanas de temperatura de operación (especialmente bueno para material sensible al calor a bajas temperaturas), recubrimiento uniforme con etapa giratoria, y bajo coste.

ESPECIFICACIONES:

Potencia	208 - 240 VCA, monofásica, 50/60 Hz 9,5 kW en total (necesario para que todas las piezas de calentamiento y el plasma funcionen correctamente)
Panel de control Todos los parámetros de procesamiento de ALD se controlan mediante PLC a través de un panel de pantalla táctil de 6", incluido el tiempo de pulso de vapor, el caudal de gas inerte, la temperatura del burbujeador de calentamiento y de la cinta, y la velocidad de rotación de la etapa de muestra . 13,56MHZ, 100W máx. Potencia de plasma RF y autoajuste Se utilizaron válvulas ALD de alta frecuencia para controlar el intervalo de duración del pulso con precisión de microsegundos Control de dos canales de suministro de gas con ±0,2%F.S mediante MFC Ajuste de la presión de vacío controlando el caudal de gas Otros parámetros a petición del cliente Haga clic en la imagen de la izquierda para ver la interfaz de control
Válvula ALD	Válvula ALD de una frecuencia Frecuencia máx. de conexión/desconexión: 283 HZ Mín. Tiempo de impulso: 10 ms Puede suministrar gas de secado o vapor líquido
Cabezal de ducha	Material: Aluminio o acero inoxidable Cabezal de ducha de 4" con orificios de 0,5 mm Tubo de 1/4" de diámetro para la entrada de gas o vapor que se conecta a la válvula ALD Diseño especial para una distribución uniforme del gas o vaporizador
Ejemplo de escenario	Platina de muestra giratoria y calentable de 4" de diámetro Velocidad: 0 - 5 RPM ajustable mediante el panel de control Temperatura de trabajo: Aunque la temperatura de funcionamiento puede ser tan alta como 800 , por favor limitar la temperatura de trabajo temperatura de trabajo < 550 (+/- 5 de precisión) debido al problema de deposición de precursores. Tamaño del sustrato a recubrir: 100 mm de diámetro.
Cámara	Tubo de vidrio de cuarzo, 165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm Altura Haga clic aquí para solicitar el recambio de la cámara de cuarzo. Bridas SS 304 para asegurar el nivel de vacío: 10-5 torr por turbobomba y 10-2 por la bomba mecánica El puerto de vacío KF 25 está incorporado
>Burbujeador calentable	Se incluyen dos burbujeadores calentables de 150 ml con controladores de temperatura para transportar precursores
Dimensiones	L 700 mm×A 700 mm × H 1400 mm
Bomba de vacío ( opcional)	No se incluye una bomba de vacío, le sugerimos que pida una bomba seca para el proceso CVD haciendo clic en la siguiente imagen
Garantía	Garantía limitada de un año con asistencia de por vida (la garantía no cubre las piezas consumibles, como tubos de procesamiento, juntas tóricas y elementos calefactores; solicite recambios para los productos relacionados a continuación).
Conformidad	Certificación CE y certificación NRTL o CSA disponibles previa solicitud con coste adicional.
Vídeo de demostración