MTI | SKU:
OTF-1200X-RTP-II-CSS-300
Horno CSS y RTP de 950°C máx. con soporte giratorio para oblea de 12" - OTF-1200X-RTP-II-CSS-300
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Horno CSS y RTP de 950°C máx. con soporte giratorio para oblea de 12" - OTF-1200X-RTP-II-CSS-300
MTI
OTF-1200X-RTP-II-5-R es un horno avanzado de procesamiento térmico rápido (RTP), que está diseñado para CSS (Close Spaced Sublimation) recubrimiento de película de hasta 12 "oblea a la temperatura de trabajo de 950 ° C Max. El horno se calienta mediante dos grupos de calentadores halógenos (superior e inferior) por separado con un máximo de 20ºC/s. El portamuestras superior es giratorio para conseguir un recubrimiento uniforme. Es una herramienta excelente para la investigación de películas finas de nueva generación para células solares, tales como CdTe, Sulfuro y Perovskita, y también puede utilizarse para el recocido de obleas semiconductoras de 12".
ESPECIFICACIONES:
Estructura del horno ![]() |
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| Alimentación |
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| Cámara de vacío |
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Calentadory portamuestras |
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Sistema de control![]() |
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Temperatura de trabajo |
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| Velocidad de calentamiento y enfriamiento |
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| Dimensiones ( haga clic en la imagen para ver las dimensiones ) | L 1450 X W 1250 X H2100 mm Peso: ~500 Kg |
Opcional |
Foto. 1 Foto. 2 Foto 3 |
| Garantía | Limitada a un año con asistencia de por vida (la garantía no cubre las piezas consumibles, como los tubos de cuarzo y las lámparas calefactoras). |
| Conformidad |
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| >Instrucciones de uso | ![]() |
| Referencias (Haga clic a la derecha para ver los artículos relacionados) |
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Foto. 1 

