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OTF-1200X-ALD
Sistema combinado de horno tubular ALD y PECVD - OTF-1200X-ALD
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Sistema combinado de horno tubular ALD y PECVD - OTF-1200X-ALD
MTI
OTF-1200X-ALD es un horno tubular de doble zona que combina ALD ( deposición de capas atómicas ) y PECVD ( deposición química en fase vapor mejorada por plasma )
para la preparación de películas finas de nueva generación
para la preparación de películas finas de nueva generación
- Dos válvulas ALD de 10 ms para la deposición de películas ultrafinas
- Se requiere un procesamiento a menor temperatura en comparación con el CVD convencional
- Alta velocidad de calentamiento y enfriamiento mediante horno deslizante
- Doble zona de calentamiento para crear un gradiente térmico de hasta 500ºC
- 1100ºC Temperatura máxima de trabajo en el horno tubular
- 1100ºC Temperatura máx. de trabajo en el precalentador para calentar la fase de vapor o evaporar materiales sólidos
- Enfriamiento y calentamiento rápidos para el crecimiento de materiales 2D
| Panel de control |
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| Válvulas y estación de bombeo de vacío sin aceite |
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| Mecanismo de deslizamiento |
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Opcional |
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| Dimensiones generales |
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| Garantía |











