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GESba50D05C2R40deg07US
Ge Wafer (100) +/- 0,7 grados 2" dia x 0,5 mm, 2SP, tipo N ( Sb dopado), R:>40 ohm-cm
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Ge Wafer (100) +/- 0,7 grados 2" dia x 0,5 mm, 2SP, tipo N ( Sb dopado), R:>40 ohm-cm
MTI
Especificación Ge Wafer
- Método de cultivo: CZ
- Orientación: (100) +/_0.7 Deg.
- Tamaño de la oblea: 2 "de diámetro x 500 micras
- Pulido de la superficie: Dos lados epi pulido
- 8Rugosidad de la superficie: RMS o Ra:~ 10 A ( por AFM)
- Dopado: Dopado de Sb
- Tipo de conductor: Tipo N
- Resistividad >40 ohmios/cm (Si desea medir la resistividad con precisión,
pida nuestro Resistivímetro portátil de 4 sondas.) - Embalaje: sala blanca de clase 1000
Propiedades típicas:
- Estructura: Cúbica, a = 5,6754 A
- Densidad: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
- Punto de fusión: 937,4 oC
- Conductividad térmica: 640
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