MTI  |  SKU: GESba50D05C1R2pt7BeUS

Ge Wafer (100) 2" dia x 0.5 mm, 1SP, tipo N (Sb dopado), resistividad:2.5-2.7ohm-cm - GESba50D05C1R2pt7BeUS

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Ge Wafer (100) 2" dia x 0.5 mm, 1SP, tipo N (Sb dopado), resistividad:2.5-2.7ohm-cm - GESba50D05C1R2pt7BeUS

MTI

Especificación Ge Wafer

  • Método de cultivo: CZ
  • Orientación: (100) +/- 0.23 Deg.
  • Tamaño de la oblea: 2" dia x 500 micras
  • Pulido superficial: pulido epi por un lado
  • Rugosidad superficial: RMS o Ra< 5 A ( por AFM)
  • Dopado: Dopado de Sb
  • Tipo de conductor: Tipo N
  • Resistividad: 2,5-2,7 ohm-cm (Si desea medir la resistividad con precisión,
    pida nuestro
    Resistivímetro portátil de 4 sondas.)
  • Embalaje: sala blanca de clase 1000

Propiedades típicas:

  • Estructura: Cúbica, a = 5.6754 A
  • Densidad: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
  • Punto de fusión: 937.4 oC
  • Conductividad térmica 640