MTI  |  SKU: GESbe50D05C2R01US

Ge Wafer (110)N type, Sb doped, 2" dia x 0.5 mm, 2SP Resistividad: 0.1-0.5ohm.cm

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Ge Wafer (110)N type, Sb doped, 2" dia x 0.5 mm, 2SP Resistividad: 0.1-0.5ohm.cm

MTI

Especificación Ge Wafer

  • Método de cultivo: CZ
  • Orientación: (110) +/_0.5 Deg
  • Tamaño de la oblea: 2" dia x 500 micras
  • Acabado superficial (RMS o Ra) : Pulido óptico de dos caras < 30A
  • Dopado: Sb dopado
  • Tipo de conductor: Tipo N
  • Resistividad: 0,1-0,5ohm.cm (Si desea medir la resistividad con precisión,
    pida nuestro
    Resistivímetro portátil de 4 sondas.)
  • Embalaje: en sala blanca de clase 1000

Propiedades típicas:

  • Estructura: Cúbica, a = 5,6754 A
  • Densidad: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
  • Punto de fusión: 937,4 oC
  • Conductividad térmica: 640