MTI  |  SKU: GESbc101D05C2R0014US

Ge Wafer (111) 4" dia x 0.5 mm, 2SP, tipo N ( Sb- dopado)con resistividades: 0,014-0,022 Ohmios-cm

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Ge Wafer (111) 4" dia x 0.5 mm, 2SP, tipo N ( Sb- dopado)con resistividades: 0,014-0,022 Ohmios-cm

MTI

Especificación Ge Wafer

  • Método de cultivo: CZ
  • Orientación: (111) +/-0.5 Deg.
  • Tamaño de la oblea: 4" dia x 500 micras
  • Pulido de superficie: Pulido epi en dos caras
  • Rugosidad superficial: < 30 A ( por AFM)
  • Dopado: Dopado de Sb
  • Tipo de conductor: Tipo N
  • Resistividad: 0,014-0,022 Ohm/cm (Si desea medir la resistividad con precisión,
    pida nuestro
    Resistivímetro portátil de 4 sondas.)
  • Embalaje: sala blanca de clase 1000

Propiedades típicas:

  • Estructura: Cúbica, a = 5.6754Å
  • Densidad: 5,323 g/cm3 a temperatura ambiente
  • Punto de fusión: 937,4 oC
  • Conductividad térmica: 640