| Voltaje de entrada | |
| Potencia de salida | - 1600 V CC
- 250 W
- 150 mA máx.
- Protección de sobrecorriente integrada (>150 mA)
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Cámara de muestras
 | - Tubo de vidrio de cuarzo, 165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm Altura
- Haga clic aquí para pedir el recambio de la cámara de cuarzo.
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Cabezal de pulverización catódica y platina de muestras
 
| - Cabezal de sputtering de magnetrón flexible de 2" con refrigeración por agua incluido (Fig.1)
- Espesor del cátodo: hasta 1/4" para el cátodo no magnético; hasta 1/16" para el blanco magnético
- Una platina de muestra de acero inoxidable de 50 mm de diámetro giratoria de 0 a 5 RPM
- Un obturador de accionamiento manual para la protección del objeto. (Fig.2)
- El soporte del cabezal de sputtering está disponible para sostener el cabezal de sputtering mientras no está en funcionamiento.
- La distancia entre el cabezal del sputtering y la platina de la muestra es ajustable de 60 a 100 mm.
- Área de recubrimiento máx: 4" de diámetro máx.
- Un Aire Frío Recirculación de Agua Refrigerador 10 L/min Se incluye el flujo para refrigerar el cabezal de sputtering. (Fig.6)
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| Panel de control | - Panel de control con pantalla táctil en color de 6" con integración PLC para un manejo sencillo.
- Un panel para monitorizar y controlar todos los parámetros: vacío, corriente.
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Última presión de vacío y Bomba de vacío (opcional) | - Conexión de vacío KF25 integrada
- El sistema requiere un depósito de gas Ar con un regulador de presión. (no incluido)
- <1,0E-2 Torr mediante bomba de vacío de paletas (no incluida ) para blancos de Au, Ag, Pt, Cu, Mo (no sensibles al aire.Fig. 1-2)
- < 1.0E-5 Torr por bomba Turbomolecular (no incluida ) para blancos de Al, Mg, Li, Lr,, Zn (sensibles al aire. Fig. 3-4)
- El vacío más bajo puede alcanzar < 4.0E-6 Torr bombeando durante la noche y horneando (Fig. 3-4)
- Se puede pedir un generador de potencia RF para sputtering de no conductores o semiconductores, (Fig. 5)
Foto 1 Foto 2 Foto. 3 Foto 4 Foto 5 |
| Atmósfera gaseosa | - Se instaló una válvula de aguja para permitir la entrada de gas Ar y conseguir un mejor recubrimiento por plasma
- El sistema requiere un tanque de gas Ar con el regulador de presión (no incluido)
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| Objetivo
| - Un blanco de cobre de cobre de 2" tamaño del blanco: 2" Dia.x 2.5mm.
- También puede recubrir Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mgetc. casi todo tipo de material metálico.
- Advertencia Aluminio, Cromo o Níquel Blanco pueden ser recubiertos por esta máquina, pero por favor, consulte el método de recubrimiento recomendada antes de usar.
- Por favor, utilice RF Plasma Magnetrón Sputtering para el recubrimiento de alúmina.
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| | - Monitor de espesor de película opcional con coste adicional (Haga clic en la Fig. 1 para ver los detalles. Consulte las Fig. 2,3,4 para ver la imagen)
- Etapa de muestra calentable hasta500°C
- disponible bajo pedido con coste adicional Caudalímetro para un control preciso de la entrada de gas disponible bajo pedido con coste adicional.
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Dimensiones generales
| Haga clic en la imagen para ver los detalles |
| >Peso neto | |
| Peso y dimensiones de envío | |
| Vídeo de funcionamiento | |
Conformidad
| - Aprobación CE
- La certificación NRTL NO está disponible temporalmente.
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| Garantía | - Limitada a un año con asistencia de por vida
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| Notas de aplicación | - Advertencia: El cabezal de pulverización catódica se conecta a ALTA tensión. El operador debe llevar guantes durante la operación
- Asegúrese de que el cátodo, el cabezal de pulverización catódica, el sustrato y la etapa de calentamiento están limpios antes del recubrimiento; utilice papel de lija y alcohol para limpiar y refrescar el cátodo de Al o Níquel cada vez que lo utilice.
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