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SC4Hz25D026C1US
SiC - 4H (0001), 1" diá. x0,26 mm esp., una cara pulida - SC4Hz25D026C1US
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SiC - 4H (0001), 1" diá. x0,26 mm esp., una cara pulida - SC4Hz25D026C1US
MTI
Especificaciones del sustrato
- Orientación: <0001> +/-0.5
- Dimensión: 1" x 0,26 +/-0,03 mm
- Pulido: Pulido epi por un lado
- Rugosidad superficial: < 5 A por AFM
Propiedades típicas del SiC monocristalino
- Peso de la fórmula: 40,10
- Célula unitaria: hexagonal
- Constante de red: a =3,07 A c = 10,53 A
- Secuencia de apilamiento: ABCB (4H)
- Técnica de crecimiento: MOCVD
- Pulido: cara de silicio pulida
- Brecha de banda: 3,26eV ( Indirecta)
- Tipo de conductividad: N
- TTV/Bow/Warp: <=35 um
- Densidad de micropipeta: <=30 cm^-2
- Resistividad: 0,015~0,5 ohm-cm
- Constante dieléctrica: e (11) = e (22) = 9,66 e (33) = 10,33
- Conductividad térmica @ 300K: 4W / cm . K
- Dureza: 9 Mohs
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