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Fm100SOonSIPa100D0525C1R01US
Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm , N type , P doped, 1SP R: 0.1-1.0ohm.cm - Fm100SOonSIPa100D0525C1R01US
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Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm , N type , P doped, 1SP R: 0.1-1.0ohm.cm - Fm100SOonSIPa100D0525C1R01US
MTI
Capa de óxido térmico
- Grado de investigación , alrededor del 80 % de superficie útil
- Capa de SiO2 sobre oblea de silicio de 4
- Espesor de la capa de óxido: 100 nm ( 1000A) +/-10% por cada lado ( capa en ambos lados )
- Índice de refracción - 1.455
Especificaciones de la oblea de silicio:
- Tipo conductor: Tipo N/ P-dped
- Resistividad: 0,1-1,0 ohm.cm (Si desea medir la resistividad con precisión,
pida nuestro Resistivímetro portátil de 4 sondas.) - Tamaño: 4" +/- 0,5 mm x 0,525 mm
- Orientación: (100) +/- 1o
- Pulido: una cara pulida
- Rugosidad superficial, Ra: < 5A (RSM)
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