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GATea0505035S1US
GaAs (100), tipo N drogato con Te, 5 x 5 x 0,35 mm, 1SP
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GaAs (100), tipo N drogato con Te, 5 x 5 x 0,35 mm, 1SP
MTI
- Wafer di cristallo singolo di GaAs
- Metodo di crescita: VGF
- Orientamento: (100)
- Dimensioni: 5 x 5 x 0,35 mm
- Lucidatura: un lato lucidato
- Doping: Drogato con Te
- Tipo di conduttore: Tipo N
- Concentrazione di portatori: (3,04-5,98) x 10^17 /cm^3
- Mobilità: (3330-3850) cm^2/V.S
- Resistività: (3,14-5,34) E-3 ohm-cm
- EPD: < 5000 /cm^2
- Nota: lucidatura EPI
- RMS < 5 Angstrom
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