Orientamento GaAs (111)B, semi-isolante, non drogato, 5X5x 0,625 mm, 1sp
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Orientamento GaAs (111)B, semi-isolante, non drogato, 5X5x 0,625 mm, 1sp
MTI
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Wafer di cristallo singolo di GaAs
Metodo di crescita: VGF
Orientamento: (111)BPiano primario: EJ(0-11)+/- 0,5 gradi; Piano secondario: EJ(-211)
Dimensioni: 5X5 x 0,625 mm
Lucidatura: un lato lucidato
Doping: non drogato
Tipo di conduttore: Semi-isolanteResistività:(1,57-3,86)E8 ohm.cm
Concentrazione del portatore: N/A
Mobilità: (4120-5860) cm^2/V.S
EPD: N/ARa (ruvidità media) : < 0,4 nm
| Altro GaAs |
InSb |
Altro InAs |
InP |
GaSb |
Scatola per wafer |
Rivestitore di film |
Forni RTP |
