ALD/CVD/PVD

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1200C Max. Horno PECVD deslizable de doble zona con suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

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1200C Max. Horno CVD mejorado por plasma de microondas (MPECVD) con tubo de cuarzo de 1''-2'' - OTF-1200X-S-MPECVD

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Horno de doble tubo deslizante de 1200C máx. con bridas de tubo de 50 mm para TCVD - OTF-1200X-S-50-DFSL

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Horno de tubo partido de doble zona de 1200C con sistema de alimentación de muestras de hasta 4 crisoles para HPCVD - OTF-1200X-II-ZL

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Horno rotativo CVD 1200°C asistido por plasma microondas con tubo de 2" - GSL-1200R-MWPE

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Horno tubular con alto vacío (1E-4 torr) y estación de flujo de gas de 3 canales para CVD - Serie OTF-1200X-HVC3

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Horno tubular de tres zonas (4") con bomba de vacío (1,0E-4 torr) + caudalímetros digitales de gas de 9 canales para CVD - OTF-1200X-4-III-9HV

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Horno tubular de tres zonas (1200C) con estación de alto vacío (1,0E-4 torr) + estación de gas MFC de 4 canales para CVD - OTF-1200X-III-HVC-LD

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Horno tubular CVD de tres zonas con tubo de cuarzo de 8,5" y brida deslizante (1100C) - GSL-1100X-8.5-III-SR

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Deposición química en fase vapor mejorada por plasma a alto vacío (tipo CCP) - VTC-PECVD

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Horno con pulverización ultrasónica de 1,7 MHz hasta 1800C para formación de partículas especiales - GSL-1800X-PGEP

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Horno económico MIST CVD (1200°C Max. ) para Crecimiento de Cristales- OTF-1200X-S-Mist

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Horno CVD de doble tubo (11"/10") (1200°C máx.) para crecimiento de grafeno de gran superficie -GSL-1100X-III-D11

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Horno CVD de dos tubos de cuarzo (5"/4") y tres zonas hasta 1200C para película de grafeno - OTF-1200X-III-D5-4

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Sistemas compactos de vaporización de líquidos con control de temperatura y presión para CVD y DLCVD - LVD-F1

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Sistema de deposición de capas atómicas mejorada por plasma (PE-ALD) a 800°C con platina giratoria de 4" - ALD-800X-4-PE

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Horno de tubo partido PECVD de 5" (1200C máx.) con estación de bomba de vacío - OTF-1200X-5L-PE

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Horno PECVD compacto autodeslizante con tubo de 2" y bomba de vacío, Max. 1200C - OTF-1200X-S50-PESL

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Horno tubular rotativo de 5" y dos zonas @1100C máx. para CVD de polvos - OTF-1200X-S-II-R5

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Horno tubular rotativo compacto de 2" y dos zonas @1100C máx. para CVD de polvos. - OTF-1200X-S-R-II