RTP (tratamiento térmico rápido)

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Horno de prensado al vacío de calentamiento rápido hasta 1600C y 50 Mpa con matriz de grafito de 0,5" - OTF-1700X-RHP4

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Horno de calentamiento y prensado ultrarrápido (UHP) de hasta 2900°C y 500 kgf con vacío ultraalto - RTP-MS

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Horno CSS de dos zonas para procesamiento térmico rápido de hasta 3" de diámetro y máx. 650°C. - OTF-1200X-RTP-II

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Horno de tubos RTP con calentamiento IR de dos zonas (4'' ID ) con portamuestras deslizantes - OTF-1200X-IR-IISL

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Horno tubular CVD de tres zonas con tubo de cuarzo de 8,5" y brida deslizante (1100C) - GSL-1100X-8.5-III-SR

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Horno tubular 1200C con deslizamiento interno de la muestra por imán para DVD y RTP - OTF-1200X-S-DVD

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Horno de vacío de calentamiento y enfriamiento rápidos (1100°C 2" D.I.) - VBF-1100X-Q

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Horno de prensado térmico ultrarrápido de sobremesa (UFTP) hasta 2900°C a > 200K/s de velocidad y 10 kgf -RTP-M1

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Horno tubular compacto de deslizamiento automático (2 "OD, 1200C máx.) para calentamiento/enfriamiento rápido - OTF-1200X-50-SL

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Horno PECVD compacto autodeslizante con tubo de 2" y bomba de vacío, Max. 1200C - OTF-1200X-S50-PESL

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Horno RTP compacto controlado por atmósfera con tubo de cuarzo de 4" de diámetro interior hasta 1100°C - OTF-1200X-4-RTP

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Horno RTP controlado por atmósfera para oblea de 8" hasta 1000 °C - VBF-1050X-H8

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Horno CSS y RTP de 950°C máx. con soporte giratorio para oblea de 12" - OTF-1200X-RTP-II-CSS-300

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800°C Max. Horno CSS y RTP con soporte giratorio para oblea de 5x5" - RTP-II-5-R

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Horno de caja 1700C con fijación deslizante para calentamiento y enfriamiento rápidos - KSL-1700X-RTP