Film sottili dalla A alla Z

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 100 mm di diametro x 0,46 mm, 2sp, film: 0,5 um di spessore,

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 100 mm di diametro x 0,46 mm, 1sp, film: 1,0 um di spessore

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 100 mm di diametro x 0,46 mm, 1sp, film: spessore 0,6 um

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 100 mm di diametro x 0,46 mm, 1sp, film: 0,5 um di spessore

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Film di nitruro di silicio (LPCVD) su Corning 7980, spessore del film: 1.3um, 10x5x0.5mm

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Film di nitruro di silicio (LPCVD) su Corning 7980, spessore del film: 1.3um, 10x10x0.5mm

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Film di nitruro di silicio (LPCVD) su Corning 7980, spessore del film: 1,3um

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Film SiC-3C di tipo N su wafer di silicio (111), film: 1,0um Spessore del substrato: 10x10x1,0 mm

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Film sottile SiO2+Pt su substrato di Si (drogato con B), 10x10x0,5mm, 1sp (SiO2=500nm, Pt=60nm)

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Template GaN semi-isolante su zaffiro (0001), 3 "x 0,5 mm, film GaN 1sp: 5um

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Tubo di quarzo: 130 ODx120 IDx1400L mm (5 "x 55") per forni tubolari fai da te - QZTube-125GE-1400

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Film Epi YIG su un lato (3,08 micron) su substrato GGG, (111), 5x5x0,5mm(2sp)

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Film YIG Epi su un lato (3,08 micron) su substrato GGG, (111), 10x10x0,5mm (2sp),

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Film YBCO da un lato 100nm su substrato SrTiO3(100) 10x10x0,5 mm - FmYBCOonSTOa101005S1FT100nm

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Film di YBCO da un lato (300-400) nm su substrato SrTiO3 (100) 10x10x0,5 mm

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Nichel<111> Film (100nm) rivestito SiO2/Si Wafer -(100) P/Boron ,10x10x0.5mmSSP, R:1-20 ohm.cm - Ni-SO/Si-101005S1

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Nichel <111> Film (100nm) rivestito di wafer Si (100) P/Boron, 10x10x0,5mmSSP, R:1-20 ohm.cm

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Nichel <111> Film (100nm) + 300 nm di SiO2 rivestito Wafer di silicio -4" dia .(100) P/Boron ,SSP, R:1-20 ohm.cm

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Filo di molibdeno per forno verticale MTI come filo di trazione

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MgO (100) Substrato 10x10 x1,0 mm, 2SP, quantità scontata! - MGa101010S2