Film sottili dalla A alla Z

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Wafer di ossido termico: Strato di SiO2 da 300 nm su Si (100), Ø 100 mm x 0,5 mm t, tipo P, 1SP R:0,01-0,05 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: 285nm SiO2 su Si (100), 10 x 10 x 0,5 mm, tipo N, drogato P 1SP, R:1-10 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: Strato di SiO2 da 1000 nm su Si (100), diametro 4 "x 0,525 mm t, tipo P, 1SP, R:1-20 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: 100 nm SiO2 su Si (100), 5x5 x 0,5 mm, tipo N, drogato con As, 1SP, R: 0,001-0,005 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: 100 nm SiO2 su Si (100), 10 x 10 x 0,5 mm, tipo N, drogato con As, 1SP, R: 0,001-0,005 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: Strato SiO2 da 100 nm su Si (100), diametro 4" x 0,525 mm, tipo N, drogato P, 1SP R: 0,1-1,0ohm.cm - Fm100SOonSIPa100D0525C1R01US

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Wafer di ossido termico: Strato di 100 nm di SiO2 su Si (100), diametro 4 "x 0,50 mm t, tipo P, drogato B 1SP R:1-10 ohm.cm

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Wafer di ossido termico, strato di SiO2 da 30 nm su Si (100), diametro 2" x 0,50 mm t, tipo N, drogato con As, 1 lato lucidato, R:<0,005 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: strato di SiO2 da 300 nm su Si (100) 100 mm diax0,5 mm t, tipo P, 1SP R: 0,001-0,005 ohm.cm

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Wafer di ossido termico: Strato di SiO2 da 300 nm su Si (100), diametro 4" x 0,50 mm t, tipo N non drogato, 1SP R:>5000 ohm.cm

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Wafer SOI: 5x5x0,625 mm, 2,5" m (drogato P) +1,0 SiO2 +625um Si (drogato tipo P/Boron)

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Wafer SOI: 6", 2,5 "m (drogato P) + 1,0 SiO2 + 625um Si (drogato tipo P /Boron)

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Wafer SOI: 10x10x0,625mm, 2,5um (drogato P) +1,0 SiO2 +625um Si (drogato P/boron)

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Film sottile SiO2+Ti+Pt(111) su substrato di Si, 4 "x0.525mm, 1sp P-tipo B-drogato, (SiO2=300nm, Ti=10nm, Pt(111)=150nm)

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Film sottile di SiO2+Ti+Pt(111) su substrato di Si, 2 "x0,279mm, 1sp di tipo P drogato B.R:1-20 ohm.cm

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Film sottile SiO2+Ti+Pt su substrato di Si, 10x5x0.5mm, 1sp, drogato B, (SiO2=500nm, Ti=50nm, Pt=200nm)

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 5 mm x 5 mm x 0,46 mm, 2sp, pellicola: spessore 0,5um

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 10 mm x 10 mm x 0,46 mm, 2sp, film: spessore 0,5 um

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 5mmx 5mmx0,46 mm, 2sp, film: spessore 1,0um

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Silicio su zaffiro (11-02, piano R), 5mmx 5mmx0,46 mm, 2sp, film: 0,6um di spessore